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Rensselaer Polytechnic Institute
李天和(Thomas H. Lee,1923年5月11日-2002年2月3日),出生于上海,美国华裔电工科学家。
李天和早年曾就读于上海市南洋模范中学,后考入交通大学并于1946年毕业。此后赴美国留学,1950年获联合学院(Union College)电工硕士学位。
1954年又获伦斯勒理工学院博士学位。他于1948年起进入通用电气公司任职,曾于1970年代出任通用电气公司电力业务总战略设计师、电力系统总工程师等职。此后任教于麻省理工学院电机系。
他是电气电子工程师学会(IEEE)高级会员。1975年当选美国国家工程院院士。1981年当选美国科学促进协会高级会员。1984年出任国际应用系统分析研究所(IIASA)所长。1986年当选瑞士工程科学院通讯院士。2000年又当选中国工程院外籍院士。
所在城市:首府奥尔巴尼附近的特洛伊镇